摘要: 四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种澄清、水溶性好、碱性强的有机溶剂，作为显影液广泛使用在半导体及液晶显示器(LCD)产业的光刻制程中。由于TMAH的用途广泛，对于其中杂质含量的分析至关重要。在SEMI C46-03061标准中明确给出了25％(质量分数，下同)的TMAH中杂质含量的限值，即每个元素含量在10 ng/g以下；但是有些用户提出了杂质含量低于此限值的需求。电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)由于其快速分析的能力、高通量性、对制程中各种化学品的适应性，已成为质量监控必不可少的经典工具。在实际分析中，应用ICP-MS技术需要高度关注样品基体形成的多原子干扰和高碳含量有机物的基体抑制，尤其是用于直接分析有机物样品。