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电感耦合等离子体发射光谱法测定工业硅中微量元素

沙艳梅

沙艳梅. 电感耦合等离子体发射光谱法测定工业硅中微量元素[J]. 岩矿测试, 2009, 28(1): 72-74.
引用本文: 沙艳梅. 电感耦合等离子体发射光谱法测定工业硅中微量元素[J]. 岩矿测试, 2009, 28(1): 72-74.
SHA Yan-mei. Simultaneous Determination of Micro-amount of Elements in Industrial Silicon by Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry[J]. Rock and Mineral Analysis, 2009, 28(1): 72-74.
Citation: SHA Yan-mei. Simultaneous Determination of Micro-amount of Elements in Industrial Silicon by Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry[J]. Rock and Mineral Analysis, 2009, 28(1): 72-74.

电感耦合等离子体发射光谱法测定工业硅中微量元素

Simultaneous Determination of Micro-amount of Elements in Industrial Silicon by Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry

  • 摘要: 采用电感耦合等离子体发射光谱法同时测定工业硅中可能存在的铝、铁、钙、镁、钾、钠、磷、钡、铍、镉、铈、钴、铬、铜、锂、锰、钼、镍、铅、钛、钒、钨、锌、砷、锶、铼、锑、硼28个微量元素,并以差减法计算基体硅的含量,实现了对试样基体及杂质元素含量的同时测定。方法对28个微量元素的回收率为94.0%~103.4%,精密度(RSD,n=10)低于3.0%。方法经国家实物标准物质验证,测定值与标准值基本相符。
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-03-30
  • 修回日期:  2008-05-21

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