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黑钨精矿中二氧化硅的X射线荧光光谱分析

王子箴, 钟道国, 许春才

王子箴, 钟道国, 许春才. 黑钨精矿中二氧化硅的X射线荧光光谱分析[J]. 岩矿测试, 1988, (2): 148-148.
引用本文: 王子箴, 钟道国, 许春才. 黑钨精矿中二氧化硅的X射线荧光光谱分析[J]. 岩矿测试, 1988, (2): 148-148.

黑钨精矿中二氧化硅的X射线荧光光谱分析

  • 摘要: 本文采用粉末压片方法,以硼酸镶边垫底,将黑钨精矿粉末样品直接加压成型,用赛璐珞-丙酮溶液封固表面,然后上机测定。标准系列与样品的基体成份相近,以消除基体效应,分析二氧化硅的含量范围为0.1—10%,相对标准偏差约2%,分析精度能满足选矿流程要求。
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