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水杨基萤光酮-CTMAB荧光猝灭法测定痕量镓的研究

何应律, 赵锦端, 吴子全, 赵中一, 王茀鹏

何应律, 赵锦端, 吴子全, 赵中一, 王茀鹏. 水杨基萤光酮-CTMAB荧光猝灭法测定痕量镓的研究[J]. 岩矿测试, 1988, (2): 88-90.
引用本文: 何应律, 赵锦端, 吴子全, 赵中一, 王茀鹏. 水杨基萤光酮-CTMAB荧光猝灭法测定痕量镓的研究[J]. 岩矿测试, 1988, (2): 88-90.

水杨基萤光酮-CTMAB荧光猝灭法测定痕量镓的研究

  • 摘要: 近年来,采用水杨基萤光酮(SAF)与金属离子在表面活性剂存在下形成三元配合物,使试剂SAF荧光猝灭而测定金属离子的方法已有不少报道。但利用Ga—SAF—CTMAB形成三元配合物导致SAF荧光猝灭而测定Ga的方法尚未见报道。
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