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非离子表面活性剂存在下痕量铼的瑞利光测定

郎庆勇, 李连仲

郎庆勇, 李连仲. 非离子表面活性剂存在下痕量铼的瑞利光测定[J]. 岩矿测试, 1987, (4): 257-263.
引用本文: 郎庆勇, 李连仲. 非离子表面活性剂存在下痕量铼的瑞利光测定[J]. 岩矿测试, 1987, (4): 257-263.
shu

非离子表面活性剂存在下痕量铼的瑞利光测定

  • 地科院研究生部，中国地质科学院岩矿测试研究所 86届毕业生

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  • 摘要: 瑞利散射光在荧光分析中一直视为干扰因素,本文根据实验观察提出了瑞利光的分析应用。为扩大光度分析作了新的尝试。
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